（一）《國際展覽公約》等相關國際展覽局（International Exhibitions Bureau，簡稱BIE）的文件

　　《國際展覽公約》及其附件《關于國際展覽會參展者進口物品的海關規(guī)章》、BIE頒發(fā)的《關于使用國際展覽局局旗的規(guī)定》系所有成員國必須遵守的國際規(guī)范，其中所涉及的知識產權條款亦不例外。依據(jù)《國際展覽公約》第6條之規(guī)定，計劃在其境內舉辦本公約所述展覽會的締約國政府，應向國際展覽局遞交注冊或認可申請，闡明為該展覽會擬定的法律、法規(guī)或財政措施。因此，主辦國政府必須向BIE提交包括知識產權法律、法規(guī)在內的所有與世博會相關的規(guī)范性法律文件。而《關于使用國際展覽局局旗的規(guī)定》第4條則更是明確地提出了對世博會展會標志之一：國際展覽局局旗予以保護的具體規(guī)則。

　　（二）BIE的《注冊類國際展覽會一般規(guī)章范本》與《國際展覽會組織者編寫特別規(guī)早指南》

　　1.《注冊類國際展覽會一般規(guī)章范本》（簡稱《一般規(guī)章范本》）

　　《一般規(guī)章范本》系BIE為世博會的注冊所特別規(guī)定的義務，其要求世博會的各項事務必須嚴格據(jù)此予以執(zhí)行，其中所涉及的知識產權保護規(guī)則自然亦成為世博會具體規(guī)章的基準。

　　《一般規(guī)章范本》的第五章“專利權及版權”明確規(guī)定，世博會的主辦國應在其《特殊規(guī)章》第11號中對專利權及版權就以下內容予以詳細說明；（1）主辦國對下列知識產權國際公約的態(tài)度：1886年10月9日《保護文學和藝術作品的伯爾尼公約》、1952年9月6日《日內瓦著作權公約》、1883年3月20日《保護工業(yè)產權的巴黎公約》；（2）主辦國可適用的法律；（3）主辦國為世博會知識產權保護而采取的特殊措施。

　　同時，主辦國應指示保安人員，在未經(jīng)參展商書面同意情形下任何人不得對展品進行營利性的繪畫、拷貝、拍照、鑄型等活動；復制及銷售各官方參展者展館的圖片須經(jīng)有關展區(qū)總代表的批準。組織者保留批準復制及銷售展覽會照片或其他圖片的權利。參展者不得反對此類復制及銷售。

　　2．《國際展覽會組織者編寫特別規(guī)章指南》（簡稱《特別規(guī)章指南》）

　　除了《一般規(guī)章范本》以外，世博會主辦國的政府尚需向BIE遞交所有的特別規(guī)章草案以獲得批準。依據(jù)《特別規(guī)章指南》的規(guī)定，“知識產權和業(yè)產權保護”系其重要的一項內容，共涉及10項要求。從這10項要求分析，其實際為知識產權保護的最低要求，且為原則性規(guī)定，有賴于世博會舉辦國制定具體的規(guī)范性法律文件對此予以落實。然而不管怎樣，《特別規(guī)章指南》與《一般規(guī)則范本》互相結合，構成了國際展覽會知識產權保護的基本平臺。

　　（三）舉辦國提交的《特殊規(guī)章》對知識產權的保護

　　世博會組織者提交的《特殊規(guī)章》，往往在《一般規(guī)章范本》基礎上對以下問題予以進一步說明：（1)主辦國己參加的知識產權國際公約。從實際情況分析，組織者列入特殊規(guī)章的國際公約往往超過《一般規(guī)章范本》所列的3項；（2）主辦國法律予以保護的知識產權范圍及其概況。此乃特殊規(guī)章的核心部分。如德國漢諾威世博會《特殊規(guī)章》第12號第4至11條分別對專利（主要是發(fā)明）、實用新型、經(jīng)注冊的外觀設計、集成電路布局設計、名稱、商標和商號以及版權的保護與救濟途徑予以規(guī)定；日本愛知世博會在其《特殊規(guī)章》第11號第5至8條中具體規(guī)定了對版權、商標、外觀設計及發(fā)明和裝置的保護，上海世博會的《特殊規(guī)章》第11號第4至16條則詳細列明對專利、商標、著作、植物新品種、集成電路布局設計等提供保護。

　　除此以外，《特殊規(guī)章》還往往包含優(yōu)先權及參展者的權利保證等問題。《特殊規(guī)章》通常會對展示者的發(fā)明、實用新型、外觀設計及商標如何獲取優(yōu)先權及其證明（包括參展證書與優(yōu)先權證書）進行規(guī)定；《特殊規(guī)章》亦會對參展者遵守相關國際公約和法律法規(guī)，其展品不得侵犯他人知識產權及其他合法權益等提出明確要求。

　　無論是2000年德國漢諾威世博會，還是2005年日本愛知世博會皆在其《特殊規(guī)章》中承諾為世博會提供了一個多層次、立體知識產權保護模式。為舉辦2m0年上海世博會，中國政府向國際展覽局提交的上海世博會特殊規(guī)章第11號有關知識產權的規(guī)定，該規(guī)定于2007年6月18日獲國際展覽局第141次全體大會通過。從該規(guī)定分析，其對知識產權的保護范圍極為廣泛，該規(guī)定的第2條第3款列舉了官方參展者應遵守中國政府締結或參加的包括《保護工業(yè)產權的巴黎公約》、《保護文學和藝術作品伯爾尼公約》、《商標國際注冊馬德里協(xié)定》及其議定書等巧個知識產權國際公約，基本囊括了所有的知識產權類型；參照漢諾威世博會與愛知世博會的規(guī)則，該規(guī)定第3條中明確了官方參展者的義務：“1.官方參展者違反法律和法規(guī)的規(guī)定或者侵犯第三人知識產權的，應承擔相應責任，組織者在任何情況下都不承擔官方參展者由此引起的責任；2．官方參展者對另一官方參展者在世博會園區(qū)內侵犯知識產權的行為可采取法律行動，但應事先知會世博會政府總代表。對于明顯是侵犯知識產權的行為，世博會政府總代表有權要求侵權的官方參展者停止侵權行為。”需提及的是，就世博會政府總代表有權制止官方參展者侵權行為的規(guī)范，上海世博會與漢諾威世博會一致，而與愛知世博會相異；該規(guī)定的“特別保護措施”明確為展出展品提供臨時保護，即“官方參展者所屬展示者在世博會上首次展出的發(fā)明創(chuàng)造，自展出之日起6個月內向國家知識產權局提出專利申請，該申請不喪失新穎性。官方參展者所屬展示者在世博會上展出的商品上首次使用的商標，自商品展出之日起6個月內向商標局就相同商品以同一商標提出商標注冊申請的，該商標的注冊申請人可以享有優(yōu)先權。官方參展者所屬展示者可向組織者申請取得參展證明"。@，由此可見，上海世博會亦為展會期間的知識產權提供了一個多層次的立體的保護模式。